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发布时间：2022-03-14 05:26:26

退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。

产品特点：1、无噪声，无环境污染。2、蓄热性小，热量流失少。3、控温精度高，炉温均匀性强。4、自动化程度高，操作简单。5、可采用PID编程设定，全自动运行。6、密封性好，寿命长，。广泛应用于化工、石油、食品、冶金、机械、轻工、电力、船舶、造纸、矿山、、集中供热等工业部门。随着社会生产力的发展，其在各行业中的应用越来越广泛。

5、炉盖采用液压升降，电机控制自动行走。6、温控系统采用PID可控硅控制，精度高。箱式退火炉用途：主要用钢制工件的淬火、正火、退火等常规热处理之用的设备。特点：智能数显表PID1、电炉装载量大、生产率高，特别适用于小、中型机件的热处理加热用，节能达30%，炉温均匀，智能数显表PID（如图《智能数显表PID》所示)自动控制炉温，精密高；2、电炉装御料方便，操作条件好；3、炉门与炉体的密封为自动密封，无需人工密封；4、电炉设有连锁保护装置，可防止因误操作而发生的故障及事故

3) 在预热过程中利用抽气管道将这些气体直接抽出户外，时间维持半小时。或半小时以后打开箱门释放已挥发的混合二气体。

4) 给加热器送电，监视控温仪表的升温过程，直至工艺规定的温度得到稳定。

特别提醒：

⑴ 企业应制订科学合理的操作规程，规定好设备的开机升温、恒温步骤，以及工件的状态、数量和装件的方法。职工应严格按操作规程操作。

⑵ 严禁对物品进行干燥。应更新旧设备，尽量选用有安全门的产品。

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